純水(shui)溶液是由水(shui)分(fen)子(zi)以及少(shao)量(liang)電(dian)(dian)離(li)(li)(li)生成(cheng)的 H +和 OH-組(zu)成(cheng)，氣(qi)泡在(zai)水(shui)中(zhong)形(xing)成(cheng)的氣(qi)液界面(mian)具有容(rong)易(yi)接受 H +和 OH-的特(te)點(dian)，而(er)且通常陽離(li)(li)(li)子(zi)比陰離(li)(li)(li)子(zi)更容(rong)易(yi)離(li)(li)(li)開氣(qi)液界面(mian)，而(er)使(shi)界面(mian)常帶(dai)有負電(dian)(dian)荷。已經帶(dai)上電(dian)(dian)荷的表(biao)面(mian)一(yi)般傾(qing)向于吸附介(jie)質中(zhong)的反離(li)(li)(li)子(zi)，特(te)別是高價的反離(li)(li)(li)子(zi)，從而(er)形(xing)成(cheng)穩定的雙電(dian)(dian)層。

微(wei)金電化(hua)(hua)學(xue)所產(chan)生(sheng)微(wei)氣(qi)泡破裂瞬(shun)間(jian)，由(you)于(yu)氣(qi)液(ye)界面消失(shi)的(de)(de)劇烈變化(hua)(hua)，界面上集聚的(de)(de)高濃度離子將積蓄的(de)(de)化(hua)(hua)學(xue)能(neng)一下(xia)子釋放出來，此時可激發產(chan)生(sheng)大量的(de)(de)羥(qian)基自(zi)由(you)基。羥(qian)基自(zi)由(you)基具有(you)超高的(de)(de)氧(yang)化(hua)(hua)還原(yuan)電位，其產(chan)生(sheng)的(de)(de)超強(qiang)氧(yang)化(hua)(hua)作用可降解水中正常條件下(xia)難以(yi)氧(yang)化(hua)(hua)分(fen)解的(de)(de)污(wu)染物實現對水質的(de)(de)凈化(hua)(hua)作用。

微金電化(hua)學多相(xiang)水處理制(zhi)備工作中，由于微氣泡潰滅時會使(shi)傳質(zhi)模(mo)質(zhi)的質(zhi)點(dian)產(chan)生(sheng)很大的瞬時速度和加速度，引起劇烈的振動，產(chan)生(sheng)強(qiang)大的剪切力，使(shi)大分子(zi)主(zhu)鏈(lian)上的碳鏈(lian)產(chan)生(sheng)斷裂，使(shi)高分子(zi)物質(zhi)降解。